クリーン乾燥装置 真空ガス置換乾燥装置 真空乾燥 装置 佐藤真空 真空

真空排気による効率的なガス置換により、処理室内の酸素濃度を迅速に低減
低酸素環境でのクリーンなガス雰囲気循環ファン加熱を実現

特長

真空排気による効率的なガス置換により、処理室内の酸素濃度を迅速に低減、低酸素環境でのクリーンなガス雰囲気循環ファン加熱をおこないます。

用途

置換に要するガス量と時間を大幅に低減

強力な真空排気機能によりガス置換を効率的におこない、フロー式に比べガス量の節約と時間の短縮をもたらします。

酸素濃度管理と工程管理が確実で容易

一定の排気能力を持った真空ポンプで槽内エアを排気し、ガス置換の繰り返し回数で酸素濃度を確実に管理できます。同時に置換に要する時間も確定されますので、トータルの工程管理も確実、容易におこなえます。

真空用チャンバー・部品で構成し、外部雰囲気の 影響を受けません

読構造、強度など真空用として設計製作されておりますので、システム全体の漏れ量は極めて少なく(Leak rate:×10-6Pa・L/sec以下)、真空排気中でも外 部雰囲気に影響されず、低酸素雰囲気でのクリーンな加熱処理が可能です。

真空とガス雰囲気…2種類の加熱処理が1台でできます

当社標準規格の真空仕様で、真空乾燥・真空ベーキン グ処理ももちろん可能です。

強制冷却機能(オプション)により、処理時間をさらに短縮

オプションの強制冷却機能を組込むことにより、ワー クの取り出し温度までの冷却時間を大幅に短縮し、結果としてトータルの処理時間を短縮します。

用途

主として、半導体部品、電気・電子部品、電子材料、金属、セラミック、新素材等の低酸素雰囲気でのクリーンな乾燥・ベーキング処理工程に広く用いられています。もちろん、真空乾燥・真空ベーキング処理にもお使いいただける構造となっています。

概略仕様

槽内有効寸法 W400×D400×H400mm~W600×D600×H600mm
性能 到達圧力 ×101Pa (べークアウト後無負荷常温時)
加熱温度範囲 60℃~450℃
構成 排気系 油回転真空ポンプ:1500L/min 三相200V2.2kW  
オイルクリーナー(オプション):WS-2-250
加熱系

内部ヒーターパネル:4面(シースマイクロヒータ) 熱風循環加熱:N2, Ar
温度制御

定置温調計またはプログラム温調計:PID制御
冷却方式

ガス置換冷却  ガスフロー冷却  ガス強制循環冷却(オプション)
計装

ピラニ真空計  連成計  K熱電対
制御盤

架台組込み式
操作

運転

シーケンサによる自動運転:スタート/手動
表示

グラフィックパネルに機器系統、作動機器ON/OFFの状態表示
真空排気/
ガス置換

シーケンスプログラムによる自動運転
昇温/冷却

定置運転:設定温度で自動運転/タイマー設定で冷却スタート
プログラム運転:入力パターンにより昇温/冷却
安全装置

漏電ブレーカー、過熱防止、モーター過負荷、作動エア圧低下、置換ガス圧低下
規格

外形寸法

W1250×D1450×H1650mm~W1500×D1700×H1800mm
質量

1500kg~2200kg
ユーティリ
ティー

電源: 三相 200V
冷却水: 装置入口 0.15MPa以上・50L/min以上(加熱温度200℃以上)
エアー : 装置入口 0.5MPa以上