ウェーハ表面のパーティクルを高感度に検出することが可能で、半導体製造の歩留まり維持に欠かせない装置です。
特長
- 高感度測定
⇒短波長レーザの採用による高感度化 - 高ダイナミックレンジ(Bare-Si)
⇒0.079㎛~5.0㎛ - 高い感度安定性
⇒繰り返し測定の再現性1%以下(標準偏差σ/粒子総数の平均値X) - 高コストパフォーマンス
- 低ランニングコスト
⇒Violet LD採用による長寿命・低消費電力設計
用途
デバイス量産工程 | プロセス・工程管理 設備メンテ前後のパーティクル検査・管理 パーティクル座標を用いた分析・解析 |
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新規ライン構築・設備導入 | 設置後のパーティクル検査・管理 |
ウェーハ・再生ウェーハメーカ | プロセス・工程管理 |
研究機関・大学 | プロセス開発 |
レジスト・薬剤・研磨剤 | パーティクル検査・評価 |
装置・設備メーカ | 開発・製造・出荷前のパーティクル評価等 |
概略仕様
対応ウェーハサイズ | 50mm~200mm | |
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最高検出感度 | Bare-Siウェーハ:0.079㎛ | |
光源 | Violet LD(約405nm) | |
走査方式 | スパイラルスキャン | |
大きさ(mm) | 860(W)×900(D)×1650(H) |
用力
装置電源 | 単相AC200V、20A |
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到達真空度 | -101kPa~-73kPa(-80kPa目安) 20~50ℓ/min(真空ポンプ能力相当) 口径 1/4 in |
圧力空気 | 490kPa~980kPa(500kPa目安) 2ℓ/min 口径 1/4 in |
※装置本体裏面に各々用力取り入れ箇所が設けられています。
圧力空気(エアー)と真空(バキューム)の取り入れは、外径1/4インチチューブにて行ってください。
主なオプション
SMIFシステム搭載可能(ウェーハサイズ200㎜)
SMIFとHEPAフィルタの組み合わせで局所クリーン環境を実現
各種ソフトウェア
- XY座標出力
⇒SEM・AFMでの異物分析に使用 - マップ重ね合わせソフト
⇒リファレンスウェーハに対するパーティクルの増減を可視化
⇒洗浄工程の能力確認
⇒プロセス装置によるパーティクル増加の確認が可能 - ヘイズ測定機能
⇒膜付きウェーハの表面状態(ラフネス)を確認可能
自動感度補正
- 感度補正作業を自動化
- 簡単な操作で感度チェックが可能
- PSL粒子を塗布した校正用ウェーハを利用して正確な感度補正が可能